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冷濺射小型磁控濺射儀可在消費(fèi)品上添加耐磨、裝飾性的涂層

發(fā)布時(shí)間: 2024-08-20  點(diǎn)擊次數(shù): 395次
  冷濺射小型磁控濺射儀是一種先進(jìn)的薄膜沉積設(shè)備,采用磁控濺射技術(shù)在各種基材上制備高質(zhì)量、均勻的薄膜。這種技術(shù)因其低溫、高效率和出色的膜層控制能力而被廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、電子工程以及表面工程等領(lǐng)域。磁控濺射利用磁場(chǎng)將電子約束在靶材附近的空間內(nèi),從而增加電子與工作氣體原子的碰撞幾率,產(chǎn)生更多的離子來轟擊靶材。這個(gè)過程會(huì)在較低的壓力下發(fā)生,因此被稱為“冷濺射”。離子的轟擊使得靶材原子被逐出并沉積在對(duì)面的基片上,形成薄膜。
 

 

  冷濺射小型磁控濺射儀的基本構(gòu)造:
  1.真空腔室:容納濺射過程,維持必要的高真空環(huán)境。
  2.靶材:作為濺射的材料源,通常固定在腔室的一側(cè)。
  3.磁控系統(tǒng):產(chǎn)生磁場(chǎng),束縛電子在靶材附近,增加碰撞概率,提高濺射效率。
  4.基片支架:固定并可能加熱或偏置基材,以促進(jìn)薄膜生長(zhǎng)。
  5.真空泵系統(tǒng):包括機(jī)械泵和分子泵,用于建立和維持真空。
  6.氣體供給系統(tǒng):精確控制工作氣體和反應(yīng)氣體的流量。
  7.電源:為濺射過程提供穩(wěn)定的能量。
  應(yīng)用領(lǐng)域:
  1.半導(dǎo)體制造:制備金屬互連層或柵極材料。
  2.光學(xué)薄膜:制備反射、抗反射或?yàn)V光薄膜。
  3.裝飾性薄膜:在消費(fèi)品上添加耐磨、裝飾性的涂層。
  4.保護(hù)性涂層:為工具或零件添加耐腐蝕或耐磨損的涂層。
  5.光伏產(chǎn)業(yè):制備太陽(yáng)能電池中的吸光層或?qū)щ妼印?/span>
  冷濺射小型磁控濺射儀的操作與維護(hù):
  1.真空系統(tǒng)維護(hù):定期檢查和保養(yǎng)真空泵,確保其高效運(yùn)行。
  2.靶材更換:根據(jù)薄膜需求更換不同的靶材。
  3.基材準(zhǔn)備:確保基材清潔且正確放置。
  4.濺射參數(shù)優(yōu)化:根據(jù)所需薄膜性質(zhì)調(diào)整電壓、氣壓和濺射時(shí)間。
  5.清潔腔室:定期清潔腔室,避免雜質(zhì)影響薄膜質(zhì)量。

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